高性能比表面及微孔分析儀高性能比表面及微孔分析儀 ■ 產(chǎn)品介紹
HJ12-Kubo-X1000是一款可應(yīng)用于微孔領(lǐng)域的高性能多分析站物理吸附分析儀；擁有的、的、更全面的理論模型及優(yōu)良的測(cè)試精度，滿足科研及學(xué)術(shù)探討等多方面應(yīng)用需求
■ 產(chǎn)品應(yīng)用
1. 比表面積快速測(cè)試
2. 死體積動(dòng)態(tài)校準(zhǔn)
3. 真空抽速及注氣量的動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)
4. 壓力測(cè)試B-ST
5. 高真空雙穩(wěn)態(tài)閥體與集成歧管氣路系統(tǒng)
6. 主機(jī)嵌入強(qiáng)穩(wěn)定的windowsCE觸控系統(tǒng),擁有雙控制系統(tǒng)
7. 分子泵組配置壓力輔助控制模塊，真空效率更高
8. 獨(dú)立并行的壓力探測(cè)系統(tǒng)
■ 儀器性能
1. 擁有三個(gè)高性能樣品分析站
2. 比表面積在1m2/g以下的樣品可使用氮?dú)鉁?zhǔn)確測(cè)量
3. 微孔區(qū)間測(cè)試性能*，數(shù)據(jù)點(diǎn)多，相對(duì)壓力（P/P0）在 10-6~10-8區(qū)間內(nèi)可以獲得準(zhǔn)確數(shù)據(jù)
4. 獨(dú)立并行的分析控制，擁有更高的使用效率
5. 比表面積測(cè)試耗時(shí)<90分鐘
分析方法：真空靜態(tài)容量法
測(cè)試數(shù)據(jù)：比表面積下限優(yōu)于0.0005m2/g至無(wú)已知上限
微孔分析 0.35~2nm
介孔分析 2~50nm
大孔分析 50~500nm
分析精度：重復(fù)性誤差小于±1%
分析站數(shù)量：3個(gè)樣品分析口，1個(gè)P0實(shí)時(shí)測(cè)試位
杜瓦瓶體積：4L
樣品管體積：10mL
吸附氣體：N2 、H2 、Kr 、CO 、CO2 、CH4等
分析溫度：適用于多種冷卻介質(zhì)
樣品前處理：獨(dú)立3站式樣品制備站（脫氣站），擁有獨(dú)立控溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)，溫度上限400℃，配置獨(dú)立機(jī)械泵，處理器由控制集團(tuán)
集團(tuán)■ 產(chǎn)品介紹
HJ12-Kubo-X1000是一款可應(yīng)用于微孔領(lǐng)域的高性能多分析站物理吸附分析儀；擁有的、的、更全面的理論模型及優(yōu)良的測(cè)試精度，滿足科研及學(xué)術(shù)探討等多方面應(yīng)用需求
■ 產(chǎn)品應(yīng)用
1. 比表面積快速測(cè)試
2. 死體積動(dòng)態(tài)校準(zhǔn)
3. 真空抽速及注氣量的動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)
4. 壓力測(cè)試B-ST
5. 高真空雙穩(wěn)態(tài)閥體與集成歧管氣路系統(tǒng)
6. 主機(jī)嵌入強(qiáng)穩(wěn)定的windowsCE觸控系統(tǒng),擁有雙控制系統(tǒng)
7. 分子泵組配置壓力輔助控制模塊，真空效率更高
8. 獨(dú)立并行的壓力探測(cè)系統(tǒng)
■ 儀器性能
1. 擁有三個(gè)高性能樣品分析站
2. 比表面積在1m2/g以下的樣品可使用氮?dú)鉁?zhǔn)確測(cè)量
3. 微孔區(qū)間測(cè)試性能*，數(shù)據(jù)點(diǎn)多，相對(duì)壓力（P/P0）在 10-6~10-8區(qū)間內(nèi)可以獲得準(zhǔn)確數(shù)據(jù)
4. 獨(dú)立并行的分析控制，擁有更高的使用效率
5. 比表面積測(cè)試耗時(shí)<90分鐘
分析方法：真空靜態(tài)容量法
測(cè)試數(shù)據(jù)：比表面積下限優(yōu)于0.0005m2/g至無(wú)已知上限
微孔分析 0.35~2nm
介孔分析 2~50nm
大孔分析 50~500nm
分析精度：重復(fù)性誤差小于±1%
分析站數(shù)量：3個(gè)樣品分析口，1個(gè)P0實(shí)時(shí)測(cè)試位
杜瓦瓶體積：4L
樣品管體積：10mL
吸附氣體：N2 、H2 、Kr 、CO 、CO2 、CH4等
分析溫度：適用于多種冷卻介質(zhì)
樣品前處理：獨(dú)立3站式樣品制備站（脫氣站），擁有獨(dú)立控溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)，溫度上限400℃，配置獨(dú)立機(jī)械泵，處理器由控制集團(tuán)
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